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三氯氢硅 SiHCl3

产品摘要

产品名称：三氯氢硅|SiHCl3 其他名称：硅氯仿、硅仿、三氯硅烷；Trichlorosilane、Silicochloroform 分子式：SiHCl3 CAS No.10025-78-2 UN No. UN 1818

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详细介绍

产品名称：三氯氢硅|SiHCl3
其他名称：硅氯仿、硅仿、三氯硅烷；Trichlorosilane、Silicochloroform
分子式：SiHCl3
CAS No.10025-78-2
UN No. UN 1818
理化性质：
分子量： 135.43
熔点(101.325kPa)：-134℃；沸点(101.325kPa)：31.8℃；液体密度(0℃)：1350kg/m3；相对密度(气体，空气=1)： 4.7；蒸气压(-16.4℃)：13.3kPa；(14.5℃)：53.3kPa；燃点：-27.8℃；自燃点：104.4℃；闪点：-14℃；爆炸下限：9.8%；毒性级别：3；易燃性级别：4；易爆性级别：2
产品纯度：99.999%
包装说明：43L或47L专用钢瓶包装，45kg/瓶
产品说明：三氯氢硅在常温常压下为具有刺激性恶臭易流动易挥发的无色透明液体。在空气中极易燃烧，在-18℃以下也有着火的危险，遇明火则强烈燃烧，燃烧时发出红色火焰和白色烟；三氯氢硅的蒸气能与空气形成浓度范围很宽的爆炸性混合气，受热时引起猛烈的爆炸。它的热稳定性比二氯硅烷好，在900℃时分解产生氯化物有毒烟雾；遇潮气时发烟，与水激烈反应；在碱液中分解放出氢气；与氧化性物质接触时产生爆炸性反应。与乙炔、烃等碳氢化合物反应产生有机氯硅烷；在氢化铝锂、氢化硼锂存在条件下，SiHCl3可被还原为硅烷。容器中的液态SiHCl3当容器受到强烈撞击时会着火。可溶解于苯、醚等。无水状态下三氯硅烷对铁和不锈钢不腐蚀，但是在有水分存在时腐蚀大部分金属。
　　三氯氢硅用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成，是有机硅烷偶联剂中最基本的单体，也是生产半导体硅、单晶硅的原料。尤其是精细化工、有机硅产业、电子产品、光纤通讯等行业大量使用。
注意事项：三氯氢硅的蒸气和液体都能对眼睛和皮肤引起灼伤，吸入后刺激呼吸道粘膜引起各种症状。瓶装气体产品为高压充装气体，使用时应经减压降压后方可使用。包装的气瓶上均有使用的年限，凡到期的气瓶必须送往有部门进行安全检验，方能继续使用。每瓶气体在使用到尾气时，应保留瓶内余压在0.5MPa，最小不得低于0.25MPa余压，应将瓶阀关闭，以保证气体质量和使用安全。瓶装气体产品在运输储存、使用时都应分类堆放，严禁可燃气体与助燃气体堆放在一起，不准靠近明火和热源，应做到勿近火、勿沾油腊、勿爆晒、勿重抛、勿撞击，严禁在气瓶身上进行引弧或电弧，严禁野蛮装卸。

1, 3 butadiene, pure hydrogen and high purity oxygen, nitrogen, argon, hydrogen, nitrogen dioxide, trimethyl bromide boron TMB, silane and silane mix other gas, hydrogen, nitrogen trifluoride selenide, boron trifluoride, liquid ammonia, etching gas, electronic gas, six fluoride oxide, hydrogen sulfide, and methane, high pure butane, high purity isobutane methane, high purity, high purity, high purity propane butane, high-purity propylene and isobutylene, butadiene, ethane, butene, anti - 2 - butene, propylene, propiolic, vinyl acetylene, ethyl acetylene, carbonyl sulfur, allene, sulfur hexafluoride, new pentane, carbon tetrafluoride, eight fluorine cyclobutane, nitric oxide, high purity nitrous oxide (n2o), hydrogen chloride, high purity helium, ultrapure, ultra pure nitrogen, pure argon and helium gas standard.Trimethyl gallium, trimethyl indium gallium, trimethyl aluminum, triethyl, triethyl indium, diethyl zinc, zinc dimethyl, dicyclopentadienyl magnesium source (MO)